Kromě PVD metod se pro průmyslové aplikace dnes stále častěji používají též metody chemické, např. nanášení z plynné fáze metodou CVD. Jako příklad je možno uvést nanášení chromových vrstev z plynné fáze z různých halogen-derivátů chromu nebo nitridaci chromových povlaků v čpavkové atmosféře při teplotě 700 - 800 oC. V posledních letech se intenzívně hledají chemické postupy, které by danou teplotu přípravy podstatně snížily, a to tak, aby tyto reakce bylo možné použít též na materiály, které tak vysokou teplotu nesnášejí. Východiskem ke snížení teploty je použití organokovových sloučenin (pro vrstvy CrN a vrstvy karbidu chromu), různých alkoholátů nebo acetyl-acetonátu chromu pro přípravu Cr2O3 vrstev. Požadavkem pro průmyslové využití je, aby tyto sloučeniny nebyly samozápalné, toxické a navíc, aby se daly dobře zplyňovat.
Depozice Cr2O3
Jako vhodný prokurzor pro přípravu vrstev Cr2O3 , který splňuje požadavky na nízkou toxicitu a dá se dobře zplyňovat pro nanášení z plynné fáze, je acetyl-aceton chromu C15H21CrO6. Příprava vrstev pak probíhá v rozmezí teplot 350 - 550 oC . Nanášení se provádí za atmosférického tlaku metodou CVD (teplota 400 - 450 °C) nebo za sníženého tlaku metodou LPCVD (teplota 500 - 650 oC) nebo plazmaticky metodou PACVD (teplota 350 oC).
Přípravu vrstev Cr2O3 jsme prováděli všemi třemi způsoby na křemík Si(111) nebo na kovové materiály z různých ocelí, a to v oxidační atmosféře. Vrstvy připravené do 450 oC byly amorfní - obr. 1. Vrstvy připravované při teplotě 550 oC a výše byly polykrystalické - obr. 2. Naměřený index lomu vrstev se pohyboval v rozmezí 2,3 - 2,5. Dosažená tvrdost vrstev naměřená na Si substrátu byla 20 - 25 GPa. Složení vrstev měřené metodou EPMA (Electron Probe Microanalysis) ukázalo, že vrstvy kromě Cr a kyslíku obsahovaly vždy určité množství uhlíku v závislosti na zvolené metodě.