Tuto poslední nevýhodu řešil systém Punťa, kde byly dvě centrální elektrody oddělené (na historickém schématu symbolicky znázorněné izolací). Pro depozici jsme využili dvou katod z různých materiálů. Pohyb katodové skvrny byl řízen na každé katodě zvlášť – nezávisle. Nevýhodou zůstávala poměrně malá povlakovatelná výška a omezení rychlosti pohybu katodové skvrny a s tím související vyšší tvorba tzv. makročástic.
Zásadní průlom v průmyslové přípravě přišel až s rotačními katodami, jejichž princip jsme si nechali v roce 2000 patentovat. Proti předchozímu uspořádání přinášel systém rotačních katod řadu výhod:
• delší dobu mezi výměnami targetů, tj. vyšší trvanlivost odpařovaných targetů (je to i významná výhoda proti běžným planárním systémům);
• větší rovnoměrnost tlouštěk povlaků po výšce substrátů;
• lepší stechiometrie (složení) po celé výšce;
• možnost přípravy multivrstevných a především nanovrstevných povlaků a jejich optimalizace;
• odpařování až 4 různých materiálů v jednom procesu;
• čištění substrátů jak pomocí MIE (Metal Ion Etching), tak i v kombinaci s LGD (Larc Glow Discharge);
• větší povlakovací komora, tedy větší vsázky;
• snazší tvorba nanokompozitů – v našem případě povlaků na bázi TiAlSiN a CrAlSiN.
Unikátnost řešení obloukové technologie s rotačními katodami (nejde jen o rotační princip, ale i o řidicí systém oblouku, který je ukryt uvnitř katod) a možnost průmyslově připravovat nanokompozitní povlaky byly velkou motivací pro našeho obchodního partnera, švýcarskou firmu Platit AG, k založení společného podniku na vývoj, výrobu a servis povlakovacích zařízení. Celá řada povlakovacích zařízení Pi80, Pi111, Pi300 (311) a Pi411, která je od roku 2003 nabízena na světovém trhu, využívá stejný princip.